光掩模行业迎 “量价齐升” 需求与技术共振下国产正加快追赶美日步伐

2025-09-05 10:14

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一、光掩模是半导体产业核心材料，应用占比达60%

根据youmi主页发布的《中国光掩模行业发展深度分析与投资前景预测报告（2025-2032年）》显示，光掩模，即光刻掩模版，又称光罩、掩模版等，作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现批量化生产。

根据下游应用行业的不同，光掩模分为平板显示掩模版、半导体掩模版、触控掩模版和电路板掩模版，其中半导体掩模版为主流。光掩模是半导体产业核心材料，其在半导体材料中市场价值量占比达12%，排名第三位。随着全球半导体产业发展，市场规模由2017年的469亿美元增长至2023年的794亿美元，光掩模在半导体材料中的应用占比提升至60%。

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二、光掩模技术持续迭代，价值量不断攀升

伴随着制程节点的迭代升级，光掩模技术持续迭代，单片掩模的价格、关键掩模的数据量、整套掩模的价值量也呈现攀升趋势。在65-45nm制程时代，掩模基板类型为Att.PSM相移掩模，单片价值量约9-12万美元，全套光掩模的价值量150-210万美元；到32nm时代，掩模转向OMOG（不透明的MoSi硬掩模），CD Uniformity、CD Targeting精度显著提升，栅极掩模的价值量提升至20万美元/片以上，全套掩模的价值量上升至300万美元及以上。

光掩模技术指标图

技术节点(逻辑)	90nm	65nm	45nm	32nm28nm	22nm20nm	14nm
波长	248/193	193	193	193	193	193
掩模基板的类型	COG	Att.PSM	Att.PSM	OMOG	OMOG	OMOG
CD Uniformity	10	7	6	4	2	1.5
CD Targeting	10	7	5	4	3	2
Registration	20	15	12	7	5.5	4
Mask to Mask OL	20	15	12	7	5.5	4
栅极掩模的估价	55K$	95KS	124K$	205K$	250K$x2	500K$x2
关键掩模数	5	9	13	17	21	30
整套掩模的估计	700K$	1.5M$	2.1M$	~2.9M$	~3.8MS	~7.5M$

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掩模基板技术指标图

技术节点(逻辑)	90nm	65nm	45nm	32nm	22nm	14nm
波长/nm	248	193	193	193	193	193
基板平整度/μm	0.5	0.5	0.5	0.5	0.2	0.1
双折射参数/(nm/cm)	-	-	-	10	5	1

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光掩模行业动力强劲，市场规模随之快速增长。根据数据，2017-2023年全球光掩模市场规模由56.28亿美元增长至95.28亿美元，CAGR达9.2%。

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三、美日企业领跑全球光掩模行业，中国企业正努力追赶

掩模版属精密度较高的定制化产品，为技术密集型和资金密集型行业。半导体厂先进制程（45nm 以下）所用的掩模版大部分由自身专业工厂生产，但对于 45nm 以上的掩模版，晶圆厂出于成本的考虑，更倾向于向独立第三方掩模版厂商进行采购。在第三方掩模版市场中，主要参与者为境外知名企业，其中日本凸版印刷、美国 Photronics、大日本印刷三家合计占据 80%的市场份额。

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在国际贸易紧张、半导体产业逆全球化背景下，加速光掩模国产替代已成为国家战略重点。现阶段，国内企业正努力追赶，与国外的差距有望逐步缩小。如清溢光电是国内成立时间较早、规模较大的掩模版生产企业之一，公司2024年实现营业收入11.12亿元，同比增长20.35%；归母净利润为1.72亿元，同比增长28.49%。2025年Q1实现营业收2.99亿元，同比增长9.83%。归母净利润为5174.22万元，同比增长4.34%。

路维光电是国内唯一一家能够全面覆盖G2.5至G11全世代产线的本土掩模版企业，能够为平板显示厂商提供全世代产线的配套服务。公司2024年实现营业收入8.76亿元，同比增长30.21%；归母净利润1.91亿元，同比增长28.27%。2025年第一季度实现营业收2.6亿元，同比上升47.09%；归母净利润4915.01万元，同比上升19.66%。